半導(dǎo)體含氟廢水及拋光廢水處理技術(shù)

節(jié)能型功率電子器件用拋光片產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目F-25廢水處理站
工程地點(diǎn)
津華苑產(chǎn)業(yè)區(qū)（環(huán)外）海泰東路12號(hào)
工作范圍
總承包（不包括土建施工）
項(xiàng)目起始時(shí)間
2008年11月
廢水性質(zhì)
電子廢水
工程規(guī)模
無(wú)機(jī)廢水480m3/d，含氟廢水120m3/d，拋光廢水360m3/d，有機(jī)廢水50m3/d。
設(shè)計(jì)水質(zhì)
無(wú)機(jī)廢水SS =400mg/L ，pH=1-11；含氟廢水F =1000-3000mg/L，SS=1000mg/L ，pH=2；    拋光廢水SS =3000mg/L ，pH=2-10；有機(jī)廢水COD =5000-10000mg/L ，pH=2-11。
設(shè)計(jì)出水水質(zhì)及用途
出水必須達(dá)到《天津市污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》三級(jí)標(biāo)準(zhǔn)開發(fā)區(qū)（CODcr =500mg/L；F=20 mg/L，SS=500mg/L）。
主要工藝
無(wú)機(jī)廢水：調(diào)節(jié)池+中和反應(yīng)；含氟廢水及拋光廢水：調(diào)節(jié)池+中和反應(yīng)+混凝沉淀，有機(jī)廢水：外運(yùn)處理。
工程特點(diǎn)
本工藝處理的廢水有無(wú)機(jī)機(jī)廢水，含氟廢水、拋光廢水和有機(jī)廢水。無(wú)機(jī)廢水廢水的pH值超標(biāo)，故為了減少投資和節(jié)約成本，僅通過調(diào)節(jié)廢水的pH后直接排放；含氟廢水和拋光廢水的區(qū)別主要為，含氟廢水中含有F離子，而其他指標(biāo)和拋光廢水接近，考慮此情況，故對(duì)含氟廢水先進(jìn)行加氯化鈣藥劑去除F離子，然后和拋光廢水混合一起進(jìn)行混凝沉淀處理；有機(jī)廢水由于COD值很高，并且難生化處理，考慮到廢水量較小，故將有機(jī)廢水收集后直接外運(yùn)處理。